| 技術(shù)參數 | ||
| 最大輸出電流(mA)：±80 最大輸出電位(V)：±12 電位范圍(V)：±5 電位掃速(V/s)：1mV/S…3V/S (分辨率 1 mV)； 1mV/S…35V/S (分辨率 10 mV) 電流測量： 10nA…10mA 七個(gè)范圍 標準測量模式：DP,NP，DC,SQW,AC1,AC2,CV,PSA，CCPSA，CVS，CPVS 控制方式：PC 機 電極：MME, RDE(Au,Pt,Ultra Trace,Ag,GC) 模擬器：儀器硬件自檢 自動(dòng)化：自動(dòng)進(jìn)樣、加標、沖洗等 | ||
| 主要特點(diǎn) | ||
| 循環(huán)伏安溶出分析（CVS）和循環(huán)脈沖伏安溶出分析（CPVS）是電鍍行業(yè)中廣泛應用的方法。許多鍍層技術(shù)，特別是電路板（PCBs）制造業(yè)，這個(gè)方法是生產(chǎn)控制的重要組成部分。添加劑的定量是通過(guò)其對槽液主成份沉積的影響而進(jìn)行間接測定。由于測量是基于生產(chǎn)過(guò)程發(fā)生的電極反應，所以可以直接測定添加劑的活性和效果。 各種類(lèi)型添加劑的定量測定需要專(zhuān)門(mén)的校正技術(shù)：線(xiàn)性近似法（LAT）或修正線(xiàn)性近似法可測定光亮劑。稀釋滴定法（DT）可測定抑制劑。 這些分析使用結構簡(jiǎn)單、性?xún)r(jià)比好的旋轉鉑盤(pán)電極。在每次測定前，電極需要進(jìn)行電化學(xué)預處理，這已在方法中設置好、并完全自動(dòng)重復直至測定值穩定。 采用CVS或CPVS可以準確測定添加劑的含量。 電鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數來(lái)表示并打印出來(lái)。這意味著(zhù)可以準確的調節添加劑濃度。保證了操作的連續性和無(wú)干擾。特別是分析結果的準確性使該方法為電鍍行業(yè)所接受。其他方法，如經(jīng)典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質(zhì)量的評估而不能測定添加劑濃度。 可調用預置的方法，只需要調整少量參數，就可以開(kāi)始測定。應用報告中配置的方法可用于電鍍業(yè)排名前列的企業(yè)的鍍液分析�？梢陨暇W(wǎng)下載Metrohm 應用報告（AB）和應用簡(jiǎn)報（AN），其中有更深入的應用方法。 | ||
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| 797 VA Computrace是先進(jìn)的伏安測定工作站，通過(guò)USB接口與PC相連。由PC軟件控制測定，記錄測定數據并評估結果。結構合理的軟件，使得操作非常簡(jiǎn)單。而且預先安裝Metrohm應用報告和應用簡(jiǎn)報中所有方法。 單機完成伏安痕量分析及測定電鍍池中添加劑。 • 獨特的多功能電極和最新設計的恒電位器，具有極高的靈敏度 • 采用813型自動(dòng)進(jìn)樣器或766型自動(dòng)進(jìn)樣器可實(shí)現自動(dòng)化 • 數據庫程序自動(dòng)采集數據、生成報告 • 多達220個(gè)現成重要的分析方法 • 可根據要求按多種格式輸出結果 • 內置GLP指引模式、個(gè)人登錄權限和自動(dòng)電極測試。 • Windows模式的用戶(hù)界面，操作簡(jiǎn)單 • USB接口與電腦連接 |